Harrick Plasma公司的等離子清洗器是一種小型化、非破壞性的超清洗設(shè)備。等離子清洗器采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗器外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
應(yīng)用:
* 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
* 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
* 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
* 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
* 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉積凝膠的基片。
* 高分子材料表面修飾。
* 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
* 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
特征:
* 緊湊的臺(tái)式設(shè)備、沒(méi)有RF放射、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。
* 功率為低、中、高三檔可調(diào)。
等離子體表面處理儀的功能:
1.對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進(jìn)行超清洗。
2.改變某些材料表面的性能。
3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性。
4.清除金屬材料表面的氧化層。
5.對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。
等離子體表面處理儀的優(yōu)點(diǎn):
1.完全徹底地清除表面有機(jī)污染物。
2.清洗快速、操作簡(jiǎn)便、使用和維護(hù)成本極低。
3.非破壞性、對(duì)被清洗物表面光潔度無(wú)損害。
4.綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無(wú)二次污染。
5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。
6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。