EX2自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法(或稱“零橢偏”)橢偏測量原理,針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動測量型教學儀器。
EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量,以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX2儀器還可用于同時測量塊狀材料(如,金屬、半導體、介質(zhì))的折射率n和消光系數(shù)k。
特點:
儀器采用消光法橢偏測量原理,易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
采用水平放置樣品的方式,方便樣品的取放。
集成一體化設計,簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連,方便使用。
采用激光作為探測光波,測量波長準確度高。
可測量納米薄膜的膜厚和折射率;塊狀材料的復折射率、樣品反射率、樣品透過率。
儀器軟件可自動完成樣品測量,并可進行方便的測量數(shù)據(jù)分析、儀器校準等操作。
軟件中設置了用戶使用權(quán)限(包括:管理員、操作者等模式),便于儀器管理和使用。
利用本儀器,可通過適當擴展,完成多項偏振測量實驗,如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應用
EX2適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量,也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
EX2可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。
技術(shù)指標:
項目
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技術(shù)指標
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儀器型號
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EX2
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測量方式
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自動測量
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樣品放置方式
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水平放置
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光源
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He-Ne激光器,波長632.8nm
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膜厚測量重復性*
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0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層)
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膜厚范圍
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透明薄膜:1-4000nm
吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
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折射率范圍
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1.3 – 10
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探測光束直徑
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°,精度0.05°
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偏振器方位角讀數(shù)范圍
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0-360°
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偏振器步進角
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0.014°
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樣品方位調(diào)整
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Z軸高度調(diào)節(jié):12mm
二維俯仰調(diào)節(jié):±4°
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允許樣品尺寸
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圓形樣品直徑Φ120mm,矩形樣品可達120mm x 160mm
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配套軟件
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* 用戶權(quán)限設置
* 多種測量模式選擇
* 多個測量項目選擇
* 方便的數(shù)據(jù)分析、計算、輸入輸出
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較大外形尺寸
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(入射角度70°時)550*375*260mm
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儀器重量(凈重)
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約15Kg
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選配件
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* 半導體激光器
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注:(1)測量重復性:是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標準差。
性能保證
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ISO9001國際質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證
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專業(yè)的橢偏測量原理課程
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專業(yè)的儀器使用培訓